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對(duì)

態(tài)

,


個(gè)產(chǎn)品,

對(duì)待每一

做到極致認(rèn)真

每一個(gè)零件
細(xì)

每一組數(shù)據(jù)

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HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
    發(fā)布時(shí)間: 2022-05-18 15:25    

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )用途:

   在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑 HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )技術(shù)性能:

1.尺寸(深*寬*高)

內(nèi)腔尺寸:450×450×450(mm)(可定制)

外形尺寸:750×1120×1650(mm)

2. 材質(zhì):外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑,內(nèi)箱采用 316L 醫(yī)用級(jí)不銹鋼

3.溫度范圍:RT-250℃

4.溫度分辨率:0.1℃

5.溫度波動(dòng)度:≤±0.5

6 真空度:≤133pa(1torr)

7.電源及總功率:AC 220V±10% / 50HZ,總功率約 3.0KW

8.控制儀表:人機(jī)界面,一鍵運(yùn)行

9.擱板層數(shù):2 層

10.HMDS控制:可控制HMDS 藥液添加量

11.真空泵:無(wú)油渦旋真空泵