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作
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態
度
,
個產品,
做到極致認真
每一組數據
產 品 中 心
products
一.智能型HMDS預處理系統,HMDS蒸鍍機概述
HMDS預處理系統通過對烘箱預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,改變了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業。
二.智能型HMDS預處理系統,HMDS蒸鍍機特點
? 預處理性能更好:
? 處理更加均勻:
? 效率高:
? 更加節省藥液:
? 更加環保和安全:
? HMDS藥液低液位報警:
? 自動吸取HMDS:
? 可自動添加HMDS:
? HMDS藥液泄漏報警:
? HMDS氣體管路加熱系統:
? 參數記錄功能:
? 溫度與程序互鎖功能:
三.智能型HMDS預處理系統,HMDS蒸鍍機的必要性
HMDS蒸鍍就是利用惰性氣體(例如氮氣)帶著HMDS的蒸汽通過芯片表面,而在芯片表面形成一層薄膜。其目的在于:A.消除芯片表面的微量水分。B.防止空氣中的水汽再次吸附于晶面C.增加光阻劑(尤其是正光阻)對于晶面的附著能力,進而減少在此后之顯影過程中產生掀起,或是在蝕刻時產生了“Undercutting”的現象。目前在規范中規定于HMDS蒸鍍完4小時內需上光阻以確保其功能。
將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
四.智能型HMDS預處理系統,HMDS蒸鍍機技術參數
? 材質:外箱采用不銹鋼或優質冷軋板噴塑,內箱采用316L醫用級不銹鋼
? 溫度范圍:RT+10-250℃
? 溫度分辨率:0.1℃
? 溫度波動度:≤±0.5
? 真空度:≤133pa(1torr)
? 潔凈度:class 100,設備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環境
? 電源及總功率:AC 220V/380V±10% / 50HZ
? 控制儀表;人機界面
? 擱板層數:2層
? HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量
? 真空泵: 旋片式油泵或進口無油泵
? 保護裝置:緊急停止,HMDS藥液泄漏報警裝置,HMDS低液位報警,HMDS自動添加,超溫保護,漏電保護,過熱保護等
五.智能型HMDS預處理系統,HMDS蒸鍍機常用規格
容積 | 型號 | 控溫范圍 | 電源電壓 | 內膽尺寸(mm) |
40L | JS-HMDS40-AI | RT-250℃ | 220V/50Hz | W350*D350*H350 |
90L | JS-HMDS90-AI | RT-250℃ | 220V/50Hz | W450*D450*H450 |
210L | JS-HMDS210-AI | RT-250℃ | 220V/50Hz | W550*D550*H650 |
520L | JS-HMDS520-AI | RT-250℃ | 380V/50Hz | W800*D800*H800 |
注:若無符合要求的規格,可提供訂制。